Institut für Elektronische Nanosysteme·Chemnitz·05. März 2026
Beschaffung teil-automatisches Reinigungssystem fotolithografische Masken Halbleiterindustrie 6 7 9 Zoll Reinraum
Angebotsfrist:20. März 2026
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teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken -Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können. ausf. Beschreibung Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum.
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